Energie- und Elektrotechnik - DIN Media

Energie- und Elektrotechnik

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Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Verunreinigungen in Träger- und Dotiergasen - Teil 2: Bestimmung der Sauerstoffverunreinigung in Stickstoff, Argon, Helium, Neon und Wasserstoff mittels einer galvanischen Messzelle

Norm-Entwurf 2025-07

DIN 50450-2:2025-07 - Entwurf

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Verunreinigungen in Träger- und Dotiergasen - Teil 2: Bestimmung der Sauerstoffverunreinigung in Stickstoff, Argon, Helium, Neon und Wasserstoff mittels einer galvanischen Messzelle

ab 50,70 EUR inkl. MwSt.

ab 47,38 EUR exkl. MwSt.

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie; Bestimmung von Verunreinigungen in Träger- und Dotiergasen; Bestimmung der Sauerstoffverunreinigung in Stickstoff, Argon, Helium, Neon und Wasserstoff mittels einer galvanischen Meßzelle

Norm [AKTUELL] 1991-03

DIN 50450-2:1991-03

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie; Bestimmung von Verunreinigungen in Träger- und Dotiergasen; Bestimmung der Sauerstoffverunreinigung in Stickstoff, Argon, Helium, Neon und Wasserstoff mittels einer galvanischen Meßzelle

ab 35,60 EUR inkl. MwSt.

ab 33,27 EUR exkl. MwSt.

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Verunreinigungen in Träger- und Dotiergasen - Teil 9: Bestimmung von Sauerstoff, Stickstoff, Kohlenstoffmonooxid, Kohlenstoffdioxid, Wasserstoff und C₁-C₃-Kohlenwasserstoffen in Chlorwasserstoff mit Gaschromatographie

Norm [AKTUELL] 2021-07

DIN 50450-9:2021-07

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Verunreinigungen in Träger- und Dotiergasen - Teil 9: Bestimmung von Sauerstoff, Stickstoff, Kohlenstoffmonooxid, Kohlenstoffdioxid, Wasserstoff und C₁-C₃-Kohlenwasserstoffen in Chlorwasserstoff mit Gaschromatographie

Dieses Dokument legt ein Verfahren zur Bestimmung des Stoffmengenanteils an Sauerstoff, Stickstoff, Kohlenstoffmonooxid, Kohlenstoffdioxid, Wasserstoff und C1-C3-Kohlenwasserstoffen in ...

ab 43,40 EUR inkl. MwSt.

ab 40,56 EUR exkl. MwSt.

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 3: Bestimmung von 31 Elementen in hochreiner Salpetersäure mittels ICP-MS

Norm [AKTUELL] 2014-11

DIN 50451-3:2014-11

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 3: Bestimmung von 31 Elementen in hochreiner Salpetersäure mittels ICP-MS

Dieses Dokument legt ein Verfahren zur Bestimmung von den für die Halbleitertechnologie wichtigen Elemente Al, As, Ba, Be, Bi, Ca, Cd, Co, Cr, Cu, Fe, Ga, Ge, Hf, In, K, Li, Mg, Mn, Mo, Ni, Nb ...

ab 80,20 EUR inkl. MwSt.

ab 74,95 EUR exkl. MwSt.

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 4: Bestimmung von 34 Elementen in hochreinem Wasser durch Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS)

Norm [AKTUELL] 2024-09

DIN 50451-4:2024-09

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 4: Bestimmung von 34 Elementen in hochreinem Wasser durch Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS)

Dieses Dokument legt ein Prüfverfahren zur Bestimmung der Massenanteile von 34 Elementen im extremen Spurenbereich in Reinstwasser fest, wobei als Bestimmungsverfahren die Massenspektrometrie mit ...

ab 72,60 EUR inkl. MwSt.

ab 67,85 EUR exkl. MwSt.

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 5: Leitlinie zur Auswahl von Werkstoffen und Prüfung ihrer Eignung für Geräte zur Probenahme und Probenvorbereitung für die Elementspuren-Bestimmung im Bereich von Mikrogramm je Kilogramm und Nanogramm je Kilogramm

Norm [AKTUELL] 2022-08

DIN 50451-5:2022-08

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 5: Leitlinie zur Auswahl von Werkstoffen und Prüfung ihrer Eignung für Geräte zur Probenahme und Probenvorbereitung für die Elementspuren-Bestimmung im Bereich von Mikrogramm je Kilogramm und Nanogramm je Kilogramm

Dieses Dokument gibt eine Leitlinie zur Auswahl von Werkstoffen und zur Prüfung ihrer Eignung für Geräte zur Probennahme und Probenvorbereitung, die für die Bestimmung von Verunreinigungen in ...

ab 58,30 EUR inkl. MwSt.

ab 54,49 EUR exkl. MwSt.

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 6: Bestimmung von 36 Elementen in hochreiner Ammoniumfluorid-Lösung (NH₄F) und Ätzmischungen aus hochreiner Ammoniumfluorid-Lösung mit Flusssäure

Norm [AKTUELL] 2014-11

DIN 50451-6:2014-11

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 6: Bestimmung von 36 Elementen in hochreiner Ammoniumfluorid-Lösung (NH₄F) und Ätzmischungen aus hochreiner Ammoniumfluorid-Lösung mit Flusssäure

Dieses Dokument legt Verfahren zur Bestimmung der Elemente Ag, Al, As, Au, Ba, Be, Bi, Ca, Cd, Co, Cr, Cu, Fe, Ga, Ge, In, K, Li, Mg, Mn, Mo, Na, Nb, Ni, Pb, Pt, Rb, Sb, Sn, Sr, Ti, Tl, V, W, Zn ...

ab 65,70 EUR inkl. MwSt.

ab 61,40 EUR exkl. MwSt.

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 7: Bestimmung von 31 Elementen in hochreiner Salzsäure mittels ICP-MS

Norm [AKTUELL] 2018-04

DIN 50451-7:2018-04

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 7: Bestimmung von 31 Elementen in hochreiner Salzsäure mittels ICP-MS

Dieses Dokument legt Verfahren zur Prüfung von Salzsäure auf 31 Elemente im Spurenbereich fest, wobei als Bestimmungsverfahren die Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS) ...

ab 65,70 EUR inkl. MwSt.

ab 61,40 EUR exkl. MwSt.

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 8: Bestimmung von 33 Elementen in hochreiner Schwefelsäure mittels ICP-MS

Norm [AKTUELL] 2022-08

DIN 50451-8:2022-08

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 8: Bestimmung von 33 Elementen in hochreiner Schwefelsäure mittels ICP-MS

Dieses Dokument legt ein Verfahren zur Bestimmung der für die Halbleitertechnologie wichtigen Elemente Ag, Al, As, B, Ba, Be, Bi, Ca, Cd, Co, Cr, Cu, Fe, Ga, In, K, Li, Mg, Mn, Mo, Na, Nb, Ni, Pb ...

ab 58,30 EUR inkl. MwSt.

ab 54,49 EUR exkl. MwSt.

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Teilchenanalytik in Flüssigkeiten - Teil 1: Mikroskopische Teilchenbestimmung

Norm [AKTUELL] 1995-11

DIN 50452-1:1995-11

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Teilchenanalytik in Flüssigkeiten - Teil 1: Mikroskopische Teilchenbestimmung

ab 35,60 EUR inkl. MwSt.

ab 33,27 EUR exkl. MwSt.

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Teilchenanalytik in Flüssigkeiten - Teil 2: Teilchenbestimmung mit optischen Durchflusspartikelzählern

Norm [AKTUELL] 2009-10

DIN 50452-2:2009-10

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Teilchenanalytik in Flüssigkeiten - Teil 2: Teilchenbestimmung mit optischen Durchflusspartikelzählern

In dieser Norm ist ein Verfahren zur Bestimmung der Anzahlkonzentration von Partikeln in Flüssigkeiten mittels automatischer Durchfluss-Partikelmessgeräte festgelegt. Das festgelegte Verfahren ...

ab 58,30 EUR inkl. MwSt.

ab 54,49 EUR exkl. MwSt.

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Teilchenanalytik in Flüssigkeiten - Teil 3: Kalibrierung von optischen Durchflußpartikelzählern

Norm [AKTUELL] 1995-10

DIN 50452-3:1995-10

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Teilchenanalytik in Flüssigkeiten - Teil 3: Kalibrierung von optischen Durchflußpartikelzählern

ab 43,40 EUR inkl. MwSt.

ab 40,56 EUR exkl. MwSt.

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung der Ätzraten von Ätzmischungen - Teil 1: Silicium-Einkristalle, Gravimetrisches Verfahren

Norm [AKTUELL] 2023-08

DIN 50453-1:2023-08

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung der Ätzraten von Ätzmischungen - Teil 1: Silicium-Einkristalle, Gravimetrisches Verfahren

Dieses Dokument legt ein Verfahren fest, welches zur schnellen Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen an Siliciumsubstraten dient. Dieses Dokument ist für Ätzmischungen anwendbar, die bei ...

ab 50,70 EUR inkl. MwSt.

ab 47,38 EUR exkl. MwSt.

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen - Teil 2: Siliciumdioxid-Schichten, Optisches Verfahren

Norm [AKTUELL] 2023-08

DIN 50453-2:2023-08

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen - Teil 2: Siliciumdioxid-Schichten, Optisches Verfahren

Dieses Dokument legt ein Verfahren fest, welches zur schnellen Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen an Siliciumdioxidschichten dient. Dieses Dokument ist für Ätzmischungen anwendbar, die bei ...

ab 50,70 EUR inkl. MwSt.

ab 47,38 EUR exkl. MwSt.

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Charakterisierung von Fotolacken - Teil 1: Bestimmung der Schichtdicke mit optischen Messverfahren

Norm [AKTUELL] 2009-10

DIN 50455-1:2009-10

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Charakterisierung von Fotolacken - Teil 1: Bestimmung der Schichtdicke mit optischen Messverfahren

Diese Norm legt Verfahren zur Charakterisierung von Fotolacken mittels Bestimmung der Dicke von Fotolack-Schichten fest, die unter festgelegten Bedingungen hergestellt werden. Das Verfahren der ...

ab 43,40 EUR inkl. MwSt.

ab 40,56 EUR exkl. MwSt.

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Charakterisierung von Fotolacken - Teil 2: Bestimmung der Lichtempfindlichkeit von Positiv-Fotolacken

Norm [AKTUELL] 1999-11

DIN 50455-2:1999-11

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Charakterisierung von Fotolacken - Teil 2: Bestimmung der Lichtempfindlichkeit von Positiv-Fotolacken

ab 35,60 EUR inkl. MwSt.

ab 33,27 EUR exkl. MwSt.

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Anionen in schwachen Säuren

Technische Regel [AKTUELL] 2017-02

DIN SPEC 1994:2017-02

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Anionen in schwachen Säuren

Dieser Fachbericht legt ein Verfahren zur Bestimmung der Anionen Chlorid, Sulfat, Nitrat und Phosphat in Flusssäure, Ammoniumfluorid-Lösung und deren Gemische sowie in Essigsäure im Bereich von 10 ...

Verfahren : Fachbericht

ab 46,80 EUR inkl. MwSt.

ab 43,74 EUR exkl. MwSt.

Halbleiter-Stromrichter - Allgemeine Anforderungen und netzgeführte Stromrichter - Teil 1-1: Festlegung der Grundanforderungen (IEC 22/361/CDV) (englische Fassung)

Norm-Entwurf 2023-01-15

OVE EN IEC 60146-1-1:2023-01-15 - Entwurf

Halbleiter-Stromrichter - Allgemeine Anforderungen und netzgeführte Stromrichter - Teil 1-1: Festlegung der Grundanforderungen (IEC 22/361/CDV) (englische Fassung)

ab 54,37 EUR inkl. MwSt.

ab 50,81 EUR exkl. MwSt.

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Norm-Entwurf 2023-12-01

23/30450091 DC:2023-12-01 - Entwurf

BS IEC 62899-203-2 Printed electronics. Materials - Semiconductor Ink- Space charge limited mobility measurement in printed organic semiconductive layers

ab 25,70 EUR inkl. MwSt.

ab 24,02 EUR exkl. MwSt.

Halbleiter-Stromrichter. Allgemeine Anforderungen und netzgeführte Stromrichter Festlegung der Grundanforderungen

Norm [AKTUELL] 2024-05-08

BS EN IEC 60146-1-1:2024-05-08

Halbleiter-Stromrichter. Allgemeine Anforderungen und netzgeführte Stromrichter Festlegung der Grundanforderungen

ab 424,00 EUR inkl. MwSt.

ab 396,26 EUR exkl. MwSt.

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Norm [AKTUELL] 2024-06-04

BS IEC 62899-203:2024-06-04

Printed electronics. Materials. Semiconductor ink

314,40 EUR inkl. MwSt.

293,83 EUR exkl. MwSt.

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Norm [AKTUELL] 2021-09-08

BS IEC 62899-503-3:2021-09-08

Printed electronics. Quality assessment. Measuring method of contact resistance for the printed thin film transistor. Transfer length method

ab 203,00 EUR inkl. MwSt.

ab 189,72 EUR exkl. MwSt.

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Norm [AKTUELL] 2019-11-13

PD IEC/TR 60146-1-2:2019-11-13

Semiconductor converters. General requirements and line commutated converters. Application guide

ab 424,00 EUR inkl. MwSt.

ab 396,26 EUR exkl. MwSt.

Stranggepreßte duroplastische und thermoplastische Schutzschilde für halbleitende Leitungen und Isolation

Norm [AKTUELL] 2008

ASTM D 3004:2008

Stranggepreßte duroplastische und thermoplastische Schutzschilde für halbleitende Leitungen und Isolation

ab 65,30 EUR inkl. MwSt.

ab 61,03 EUR exkl. MwSt.

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Norm [AKTUELL] 2012

ASTM D 6095:2012

Standard Test Method for Longitudinal Measurement of Volume Resistivity for Extruded Crosslinked and Thermoplastic Semiconducting Conductor and Insulation Shielding Materials

ab 65,30 EUR inkl. MwSt.

ab 61,03 EUR exkl. MwSt.

Richtlinie für die Messung von Schnittstellenbreiten bei der Aufstäubungstiefenprofilierung mit Hilfe der Sekundärionen-Massenspektroskopie

Norm [AKTUELL] 2011

ASTM E 1438:2011

Richtlinie für die Messung von Schnittstellenbreiten bei der Aufstäubungstiefenprofilierung mit Hilfe der Sekundärionen-Massenspektroskopie

ab 65,30 EUR inkl. MwSt.

ab 61,03 EUR exkl. MwSt.

Messung der schnellen Ausheilung von neutroneninduzierten Verschiebungsschäden in Siliciumhalbleitergeräten, metrisch

Norm [AKTUELL] 2016

ASTM F 980:2016

Messung der schnellen Ausheilung von neutroneninduzierten Verschiebungsschäden in Siliciumhalbleitergeräten, metrisch

ab 73,80 EUR inkl. MwSt.

ab 68,97 EUR exkl. MwSt.

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Technische Regel [AKTUELL] 2023-11

EIA JEP 197:2023-11

Guideline for Evaluating Bipolar Degradation of Silicon Carbide Power Devices

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Norm [AKTUELL] 2013-06

EIA JESD 88E:2013-06

JEDEC Dictionary of Terms for Solid-State Technology

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Norm [AKTUELL] 2011-05

EIA JESD 221:2011-05

Alpha Radiation Measurement in Electronic Materials

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