Energie- und Elektrotechnik

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  • Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Verunreinigungen in Träger- und Dotiergasen - Teil 2: Bestimmung der Sauerstoffverunreinigung in Stickstoff, Argon, Helium, Neon und Wasserstoff mittels einer galvanischen Messzelle
    neu

    Norm [NEU] 2026-03

    DIN 50450-2:2026-03

    Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Verunreinigungen in Träger- und Dotiergasen - Teil 2: Bestimmung der Sauerstoffverunreinigung in Stickstoff, Argon, Helium, Neon und Wasserstoff mittels einer galvanischen Messzelle

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  • Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Verunreinigungen in Träger- und Dotiergasen - Teil 9: Bestimmung von Sauerstoff, Stickstoff, Kohlenstoffmonooxid, Kohlenstoffdioxid, Wasserstoff und C₁-C₃-Kohlenwasserstoffen in Chlorwasserstoff mit Gaschromatographie

    Norm [AKTUELL] 2021-07

    DIN 50450-9:2021-07

    Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Verunreinigungen in Träger- und Dotiergasen - Teil 9: Bestimmung von Sauerstoff, Stickstoff, Kohlenstoffmonooxid, Kohlenstoffdioxid, Wasserstoff und C₁-C₃-Kohlenwasserstoffen in Chlorwasserstoff mit Gaschromatographie

    Dieses Dokument legt ein Verfahren zur Bestimmung des Stoffmengenanteils an Sauerstoff, Stickstoff, Kohlenstoffmonooxid, Kohlenstoffdioxid, Wasserstoff und C1-C3-Kohlenwasserstoffen in ...

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  • Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 3: Bestimmung von 31 Elementen in hochreiner Salpetersäure mittels ICP-MS

    Norm [AKTUELL] 2014-11

    DIN 50451-3:2014-11

    Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 3: Bestimmung von 31 Elementen in hochreiner Salpetersäure mittels ICP-MS

    Dieses Dokument legt ein Verfahren zur Bestimmung von den für die Halbleitertechnologie wichtigen Elemente Al, As, Ba, Be, Bi, Ca, Cd, Co, Cr, Cu, Fe, Ga, Ge, Hf, In, K, Li, Mg, Mn, Mo, Ni, Nb ...

    ab 82,60 EUR inkl. MwSt.

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  • Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 4: Bestimmung von 34 Elementen in hochreinem Wasser durch Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS)

    Norm [AKTUELL] 2024-09

    DIN 50451-4:2024-09

    Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 4: Bestimmung von 34 Elementen in hochreinem Wasser durch Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS)

    Dieses Dokument legt ein Prüfverfahren zur Bestimmung der Massenanteile von 34 Elementen im extremen Spurenbereich in Reinstwasser fest, wobei als Bestimmungsverfahren die Massenspektrometrie mit ...

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  • Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 5: Leitlinie zur Auswahl von Werkstoffen und Prüfung ihrer Eignung für Geräte zur Probenahme und Probenvorbereitung für die Elementspuren-Bestimmung im Bereich von Mikrogramm je Kilogramm und Nanogramm je Kilogramm

    Norm [AKTUELL] 2022-08

    DIN 50451-5:2022-08

    Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 5: Leitlinie zur Auswahl von Werkstoffen und Prüfung ihrer Eignung für Geräte zur Probenahme und Probenvorbereitung für die Elementspuren-Bestimmung im Bereich von Mikrogramm je Kilogramm und Nanogramm je Kilogramm

    Dieses Dokument gibt eine Leitlinie zur Auswahl von Werkstoffen und zur Prüfung ihrer Eignung für Geräte zur Probennahme und Probenvorbereitung, die für die Bestimmung von Verunreinigungen in ...

    ab 60,10 EUR inkl. MwSt.

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  • Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 6: Bestimmung von 36 Elementen in hochreiner Ammoniumfluorid-Lösung (NH₄F) und Ätzmischungen aus hochreiner Ammoniumfluorid-Lösung mit Flusssäure

    Norm [AKTUELL] 2014-11

    DIN 50451-6:2014-11

    Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 6: Bestimmung von 36 Elementen in hochreiner Ammoniumfluorid-Lösung (NH₄F) und Ätzmischungen aus hochreiner Ammoniumfluorid-Lösung mit Flusssäure

    Dieses Dokument legt Verfahren zur Bestimmung der Elemente Ag, Al, As, Au, Ba, Be, Bi, Ca, Cd, Co, Cr, Cu, Fe, Ga, Ge, In, K, Li, Mg, Mn, Mo, Na, Nb, Ni, Pb, Pt, Rb, Sb, Sn, Sr, Ti, Tl, V, W, Zn ...

    ab 67,70 EUR inkl. MwSt.

    ab 63,27 EUR exkl. MwSt.

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  • Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 7: Bestimmung von 31 Elementen in hochreiner Salzsäure mittels ICP-MS

    Norm [AKTUELL] 2018-04

    DIN 50451-7:2018-04

    Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 7: Bestimmung von 31 Elementen in hochreiner Salzsäure mittels ICP-MS

    Dieses Dokument legt Verfahren zur Prüfung von Salzsäure auf 31 Elemente im Spurenbereich fest, wobei als Bestimmungsverfahren die Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS) ...

    ab 67,70 EUR inkl. MwSt.

    ab 63,27 EUR exkl. MwSt.

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  • Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 8: Bestimmung von 33 Elementen in hochreiner Schwefelsäure mittels ICP-MS

    Norm [AKTUELL] 2022-08

    DIN 50451-8:2022-08

    Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 8: Bestimmung von 33 Elementen in hochreiner Schwefelsäure mittels ICP-MS

    Dieses Dokument legt ein Verfahren zur Bestimmung der für die Halbleitertechnologie wichtigen Elemente Ag, Al, As, B, Ba, Be, Bi, Ca, Cd, Co, Cr, Cu, Fe, Ga, In, K, Li, Mg, Mn, Mo, Na, Nb, Ni, Pb ...

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  • Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Teilchenanalytik in Flüssigkeiten - Teil 1: Mikroskopische Teilchenbestimmung

    Norm [AKTUELL] 1995-11

    DIN 50452-1:1995-11

    Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Teilchenanalytik in Flüssigkeiten - Teil 1: Mikroskopische Teilchenbestimmung

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  • Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Teilchenanalytik in Flüssigkeiten - Teil 2: Teilchenbestimmung mit optischen Durchflusspartikelzählern

    Norm [AKTUELL] 2009-10

    DIN 50452-2:2009-10

    Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Teilchenanalytik in Flüssigkeiten - Teil 2: Teilchenbestimmung mit optischen Durchflusspartikelzählern

    In dieser Norm ist ein Verfahren zur Bestimmung der Anzahlkonzentration von Partikeln in Flüssigkeiten mittels automatischer Durchfluss-Partikelmessgeräte festgelegt. Das festgelegte Verfahren ...

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