Norm [VORBESTELLBAR]
DIN 50450-2:2026-03
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Verunreinigungen in Träger- und Dotiergasen - Teil 2: Bestimmung der Sauerstoffverunreinigung in Stickstoff, Argon, Helium, Neon und Wasserstoff mittels einer galvanischen Messzelle
- Englischer Titel
- Testing of materials for semiconductor technology - Determination of impurities in carrier gases and dopant gases - Part 2: Determination of Oxygen impurities in Nitrogen, Argon, Helium, Neon and Hydrogen using a galvanic cell
- Ausgabedatum
- 2026-03
- Originalsprachen
- Deutsch
- Seiten
- 9
- Ausgabedatum
- 2026-03
- Originalsprachen
- Deutsch
- Seiten
- 9
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Inhaltsverzeichnis
ICS
Dieses Dokument ersetzt DIN 50450-2:1991-03 .
Gegenüber DIN 50450-2:1991-03 wurden folgende Änderungen vorgenommen: a) Inhaltsverzeichnis eingefügt; b) Vorwort aufgenommen; c) Einheit in µmol/mol geändert; d) Abschnittsbenennungen geändert; e) Abschnitt 2 "Normative Verweisungen" und Abschnitt 3 "Begriffe" aufgenommen; f) Abschnitt 10 "Auswertung und Messunsicherheit" überarbeitet; g) Abschnitt 11 "Prüfbericht" überarbeitet (vorm. Abschnitt 9); h) Anhang A "Beispiele zur Berechnung der Messunsicherheit" aufgenommen; i) Literaturhinweise aufgenommen; j) Dokument redaktionell überarbeitet.