Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie; Bestimmung von Verunreinigungen in Träger- und Dotiergasen; Bestimmung der Sauerstoffverunreinigung in Stickstoff, Argon, Helium, Neon und Wasserstoff mittels einer galvanischen Meßzelle

Norm [ZURÜCKGEZOGEN]

DIN 50450-2:1991-03

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie; Bestimmung von Verunreinigungen in Träger- und Dotiergasen; Bestimmung der Sauerstoffverunreinigung in Stickstoff, Argon, Helium, Neon und Wasserstoff mittels einer galvanischen Meßzelle

Englischer Titel
Testing of materials for semiconductor technology; determination of impurities in carrier gases and doping gases; determination of oxygen impurity in N₂, Ar, He, Ne and H₂ by using a galvanic cell
Ausgabedatum
1991-03
Originalsprachen
Deutsch
Seiten
2

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Ausgabedatum
1991-03
Originalsprachen
Deutsch
Seiten
2
DOI
https://dx.doi.org/10.31030/2406706

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ICS

29.045, 71.100.20

DOI

https://dx.doi.org/10.31030/2406706
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