Chemische Oberflächenanalyse - Tiefenprofilanalyse - Verfahren zur Bestimmung der Sputterrate bei Sputtertiefenprofilanalyse mit Röntgenphotoelektronenmikroskopie, Augerelektronenmikroskopie, und Sekundärionenmassensprktometrie bei ein- und mehrlagigen Dünnschichten

Norm [ZURÜCKGEZOGEN]

ISO 17109:2015-08

Chemische Oberflächenanalyse - Tiefenprofilanalyse - Verfahren zur Bestimmung der Sputterrate bei Sputtertiefenprofilanalyse mit Röntgenphotoelektronenmikroskopie, Augerelektronenmikroskopie, und Sekundärionenmassensprktometrie bei ein- und mehrlagigen Dünnschichten

Englischer Titel
Surface chemical analysis - Depth profiling - Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films
Ausgabedatum
2015-08
Originalsprachen
Englisch
Seiten
16

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2015-08
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Englisch
Seiten
16

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