Chemische Oberflächenanalyse - Tiefenprofilierung - Verfahren zur Einstellung des Ionenstrahls und damit verbundene Messung der Stromstärke oder der Stromdichte zur Tiefenprofilierung in AES und XPS

Norm [AKTUELL]

ISO 16531:2020-10

Chemische Oberflächenanalyse - Tiefenprofilierung - Verfahren zur Einstellung des Ionenstrahls und damit verbundene Messung der Stromstärke oder der Stromdichte zur Tiefenprofilierung in AES und XPS

Englischer Titel
Surface chemical analysis - Depth profiling - Methods for ion beam alignment and the associated measurement of current or current density for depth profiling in AES and XPS
Ausgabedatum
2020-10
Originalsprachen
Englisch
Seiten
19

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2020-10
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Englisch
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19

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Inhaltsverzeichnis

ICS

71.040.40
Ersatzvermerk

Dieses Dokument ersetzt ISO 16531:2013-06 .

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